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什么是PVD涂層技術(shù)？

來(lái)源：阿諾刀具瀏覽：- 發(fā)布日期：2016-07-05 10:24:20【大中小】

PVD(Physical Vapor Deposition物理氣相沉積)是在真空條件下，通過(guò)電弧使大面積固態(tài)靶材高度蒸發(fā)離化，在可控的方式下與通入的反應(yīng)氣體結(jié)合，在產(chǎn)品表面形成1-10um的超硬薄膜，是表面處理領(lǐng)域的一項(xiàng)頂尖技術(shù)，該種膜層在真空密封的腔體內(nèi)形成，所以沒(méi)有任何環(huán)境污染問(wèn)題，是綠色環(huán)保的技術(shù)；PVD工藝溫度一般在500°以內(nèi)，所以相比PVD涂層，有著更廣泛的應(yīng)用，可以在大部分基材上成膜。

阿諾涂層采用目前最優(yōu)化的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)，這種最新的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)，在大電流的情況下也能夠精確控制電弧的運(yùn)動(dòng)，最大限度的減少液滴，涂層質(zhì)量更好，涂層表面更光滑。

TiAlN 表面粗糙度